阿斯麥解釋荷蘭最新出口管制：并非所有浸潤式DUV設(shè)備都受限
阿斯麥解釋荷蘭最新出口管制：并非所有浸潤式DUV設(shè)備都受限
財聯(lián)社6月30日訊（編輯 夏軍雄）當(dāng)?shù)貢r間周五（6月30日），荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效。
具體而言，荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。
荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣莉謝·施賴納馬赫爾表示，只有非常有限的公司和產(chǎn)品型號會受到影響。
盡管荷蘭政府并未直接點(diǎn)出會受到限制的公司，但外界都明白這是在限制光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）。
荷蘭政府的消息傳出之后，阿斯麥在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而荷蘭政府將決定是否批準(zhǔn)或拒絕所需的出口許可證，并就任何適用的條件向阿斯麥提供進(jìn)一步的細(xì)節(jié)。
阿斯麥強(qiáng)調(diào)，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。
阿斯麥同時表示，預(yù)計(jì)上述措施不會對其2023年財務(wù)前景或2022年11月投資者日期間傳達(dá)的長期情景產(chǎn)生重大影響。
有一款浸潤式DUV光刻機(jī)并不受限
近年來，美國在對華政策上實(shí)行脅迫外交，多次施壓其盟國限制如光刻機(jī)等高科技產(chǎn)品等出口。
自2018年以來，在美國的壓力之下，荷蘭政府一直禁止阿斯麥向中國出口其最先進(jìn)的極紫外線光刻機(jī)（EUV），但仍可以銷售上一代的深紫外線光刻機(jī)（DUV）。然而，美國近階段又希望進(jìn)一步打壓中國芯片行業(yè)，將DUV也納入禁售范圍。
荷蘭政府早在3月就表示，考慮把光刻機(jī)的出口管制范圍擴(kuò)大到DUV。
根據(jù)阿斯麥官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
（來源：官網(wǎng)）
阿斯麥3月曾表示，預(yù)計(jì)2000i和2050i這兩款產(chǎn)品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應(yīng)來看，TWINSCAN NXT:1980Di這款DUV光刻機(jī)并不在限制范圍內(nèi)。
根據(jù)官網(wǎng)介紹，TWINSCAN NXT:1980Di的分辨率可以達(dá)到≤38nm，每小時可以至少生產(chǎn)275片晶圓。
在實(shí)際生產(chǎn)和使用中，通過多重曝光，TWINSCAN NXT:1980Di依然可以支持到7nm左右的工藝生產(chǎn)，當(dāng)然相比于更先進(jìn)的光刻機(jī)型號，其在生產(chǎn)先進(jìn)工藝時的步驟將更為復(fù)雜，成本將更高，良率可能也會有損失。
全球晶圓廠在使用1980Di光刻機(jī)型號時，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝。但可以肯定的是，用這一臺TWINSCAN NXT：1980Di光刻機(jī)，生產(chǎn)28nm、14nm仍能完全滿足需要。這預(yù)示著目前就已大量采用NXT:1980Di進(jìn)行成熟制程制造的晶圓廠將不會受到明顯影響，但在先進(jìn)工藝方面，可能難以完全滿足需求。
中國外交部回應(yīng)
在6月30日舉行的中國外交部例行記者會上，外交部發(fā)言人毛寧在回應(yīng)記者相關(guān)提問時表示，中方堅(jiān)決反對美方泛化國家安全概念，濫用出口管制，以各種借口拉攏脅迫其他國家對華搞科技封鎖，以行政手段干預(yù)企業(yè)之間的正常經(jīng)貿(mào)往來，嚴(yán)重破壞市場規(guī)則和國際經(jīng)貿(mào)秩序，沖擊全球產(chǎn)供鏈的穩(wěn)定，不符合任何一方的利益。
她指出，中方將密切關(guān)注有關(guān)動向，堅(jiān)決維護(hù)自身的合法權(quán)益。
（財聯(lián)社 夏軍雄）
